Phosphine

Application dans l’industrie des semi-conducteurs : La phosphine est largement utilisée comme source de gaz dopant dans la fabrication des semi-conducteurs, jouant un rôle clé dans la production de matériaux et de dispositifs électroniques avancés.

Excellentes performances chimiques : En raison de ses caractéristiques chimiques distinctives, la phosphine offre des performances fiables et efficaces dans une gamme de procédés industriels spécialisés.

Application agricole : La phosphine est également utilisée comme fumigant dans des applications agricoles, contribuant à lutter contre les nuisibles et à protéger les denrées agricoles stockées.

Gaz industriel de haute pureté :En tant que gaz chimique spécialisé, la phosphine de haute pureté est essentielle pour les applications qui exigent des réactions chimiques précises, un contrôle rigoureux des procédés et une qualité de matériau constante.

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Description du produit
Spécifications clés
Utilisation du produit

Description du produit de la phosphine CAS#7803-51-2

La phosphine (n° CAS 7803-51-2 ; formule chimique : PH₃) est un gaz hautement toxique, inflammable et potentiellement explosif. Elle est largement utilisée dans la fabrication de semi-conducteurs comme gaz de dopage pour le traitement avancé des matériaux, et trouve également des applications en agriculture comme fumigant pour la lutte antiparasitaire.

Compte tenu de sa toxicité sévère et de ses caractéristiques dangereuses, la phosphine doit être manipulée selon des protocoles de sécurité stricts et dans des conditions de confinement appropriées. Même une exposition à des concentrations relativement faibles peut entraîner des effets graves sur la santé, ce qui rend essentiels un stockage, un transport et une utilisation minutieux.

Phosphine

Spécifications clés

ParamètreQualité électroniqueQualité industrielle
Pureté≥99,999 %≥99,9 %
Teneur en O₂≤0,5 ppm≤50 ppm
Teneur en H₂O≤1 ppm≤10 ppm
Impuretés totales≤10 ppm≤1000 ppm

Phosphine

Utilisation du produit

1. Fabrication de semi-conducteurs

Sert de gaz dopant au phosphore pour le silicium de type n, permettant un contrôle précis du dopage et atteignant une uniformité de dopage de ≤0,1 %.

Utilisé dans les procédés MOCVD (dépôt chimique en phase vapeur à partir de composés organométalliques) pour la fabrication de LED à base de GaN et d’autres dispositifs optoélectroniques avancés.

2. Fumigation des grains

Employé comme fumigant pour les grains stockés, offrant un contrôle des nuisibles très efficace et un taux de mortalité des nuisibles rapporté pouvant atteindre 99,9 % à une dose de 2 g/m³ selon la Ligne directrice 633 de l’OCDE.

Offre une option de fumigation à faible résidu et peut servir d’alternative au bromure de méthyle dans certaines applications de lutte contre les nuisibles.

3. Synthèse chimique

Utilisé dans la synthèse chimique spécialisée comme catalyseur ou réactif phosphoré réactif, y compris dans des procédés impliqués dans la préparation d’intermédiaires pharmaceutiques chiraux.

Phosphine

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